報道稱三星大力發(fā)展 3nm，不斷提升生產(chǎn)工藝、提高生產(chǎn)良率，目前已經(jīng)將良率提升到 60%，該媒體認(rèn)為三星會在超先進(jìn)芯片制造技術(shù)上勝過臺積電。

　　報告中也指出三星目前在 4nm 工藝方面良率為 75%，和臺積電(80%)存在差距，不過通過發(fā)力 3nm，有望在未來超過臺積電。

　　報告中還指出由于臺積電的大部分訂單都被蘋果預(yù)訂，英偉達(dá)、高通等公司都對三星的第二代 3nm(SF3)工藝感興趣。

　　據(jù)此前報道，Samsung Foundry 在 SFF 2023 上公布的最新工藝技術(shù)路線圖，該公司計劃在 2025 年推出 2 納米級的 SF2 工藝，2027 年推出 1.4 納米級的 SF1.4 工藝。與此同時，該公司還公布了 SF2 工藝的一些特性。