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不斷提升生產(chǎn)工藝,報告稱三星3nm芯片良率已達60%,高于臺積電的55%

2023-07-18 11:15:57   作者:   來源:IT之家   評論:0  點擊:


  根據(jù)近日發(fā)布的報告,Samsung Foundry 在 3nm 工藝上的良率達到了 60%,高于臺積電(55%)。

  報道稱三星大力發(fā)展 3nm,不斷提升生產(chǎn)工藝、提高生產(chǎn)良率,目前已經(jīng)將良率提升到 60%,該媒體認為三星會在超先進芯片制造技術(shù)上勝過臺積電。

  

 

  報告中也指出三星目前在 4nm 工藝方面良率為 75%,和臺積電(80%)存在差距,不過通過發(fā)力 3nm,有望在未來超過臺積電。

  報告中還指出由于臺積電的大部分訂單都被蘋果預訂,英偉達、高通等公司都對三星的第二代 3nm(SF3)工藝感興趣。

  

 

  據(jù)此前報道,Samsung Foundry 在 SFF 2023 上公布的最新工藝技術(shù)路線圖,該公司計劃在 2025 年推出 2 納米級的 SF2 工藝,2027 年推出 1.4 納米級的 SF1.4 工藝。與此同時,該公司還公布了 SF2 工藝的一些特性。

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